بررسی خواص گسیل میدانی آرایه ی نانو سیم های اکسید روی آلاییده شده با طلا

آرایه ای از نانوسیم های اکسید روی از طریق لایه نشانی فلز طلادر محیط خلأ بر روی زیرلایه ی فلز روی به همراه اکسایش حرارتی در هوا در دمای oc 400 و به مدت 4 ساعت ساخته شد. الگویپراش پرتو ایکس مجموعه ای از قله های معینی مطابق با ساختار ورتسایت اکسید روینشان داد. تصویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص نمود که نانوسیم های اکسیدروی باطول چندین میکرون تشکیل شده اند. مطالعات طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ی ایکس نشان داد کهاتم های au و zn در حالت اکسید هستند. مطالعه ی گسیل میدانی الکترون به وسیله یساختار دیودی در فشار  mbar8-10´1 صورت پذیرفت. مقدار میدان عطف،مطابق تعریف برای چگالی گسیل جریان الکترون 2µa/cm 1/0، v/µm4/2 به دستآمد. نمودار فولر- نوردهیم (f-n) رفتار خطی را در کل محدوده ی میدان اعمال شده مطابق با رفتارذاتی گسیل کننده های نیم رسانا نشان داده است